六甲基二硅氧烷等离子体对思茅松和西南桦木材表面的硅烷化

解林坤; 王洪艳; 关成; 杜官本

doi:10.11833/j.issn.2095-0756.2015.06.012

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六甲基二硅氧烷等离子体对思茅松和西南桦木材表面的硅烷化

解林坤 , 王洪艳 , 关成 , 杜官本

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解林坤, 王洪艳, 关成, 杜官本. 六甲基二硅氧烷等离子体对思茅松和西南桦木材表面的硅烷化[J]. 浙江农林大学学报, 2015, 32(6): 903-908. doi: 10.11833/j.issn.2095-0756.2015.06.012

引用本文:

XIE Linkun, WANG Hongyan, GUAN Cheng, DU Guanben. Silylated Pinus kesiya and Betula alnoides wood surfaces using hexamethyldisiloxane （HMDSO） plasma deposition[J]. Journal of Zhejiang A&F University, 2015, 32(6): 903-908. doi: 10.11833/j.issn.2095-0756.2015.06.012

Citation:

XIE Linkun, WANG Hongyan, GUAN Cheng, DU Guanben. Silylated Pinus kesiya and Betula alnoides wood surfaces using hexamethyldisiloxane （HMDSO） plasma deposition[J]. Journal of Zhejiang A&F University, 2015, 32(6): 903-908. doi: 10.11833/j.issn.2095-0756.2015.06.012

六甲基二硅氧烷等离子体对思茅松和西南桦木材表面的硅烷化

doi: 10.11833/j.issn.2095-0756.2015.06.012

解林坤^1,2,
王洪艳³,
关成²,
杜官本^1,2, ,

1.
西南林业大学云南省木材胶黏剂与胶合制品重点实验室，云南昆明 650224;
2.
西南林业大学材料工程学院，云南昆明 650224;
3.
浙江省林业科学研究院浙江省竹类研究重点实验室，浙江杭州 310023

基金项目:

国家自然科学基金资助项目（31260159）;云南省应用基础研究计划面上项目（2012FB166）;云南省教育厅科学研究基金重点资助项目（2011Z034）

详细信息

作者简介: 解林坤，副教授，博士，从事材料表面等离子体改性、木材材性及功能化改良研究。

通信作者: 杜官本，教授，博士生导师，从事木材胶黏剂、木质复合材料等研究。

中图分类号: S781.7

Silylated Pinus kesiya and Betula alnoides wood surfaces using hexamethyldisiloxane （HMDSO） plasma deposition

1.
Yunnan Provincial Key Laboratory of Wood Adhesives and Glue Products, Southwest Forestry University, Kunming 650224, Yunnan, China;
2.
College of Material Engineering, Southwest Forestry University, Kunming 650224, Yunnan, China;
3.
Key Laboratory of Bamboo Research of Zhejiang, Zhejiang Forestry Academy, Hangzhou 310023, Zhejiang, China

Funds:

国家自然科学基金资助项目（31260159）;云南省应用基础研究计划面上项目（2012FB166）;云南省教育厅科学研究基金重点资助项目（2011Z034）

摘要: 以六甲基二硅氧烷（HMDSO）为沉积单体，在等离子体环境下对思茅松Pinus kesiya和西南桦Betula alnoides木材表面进行了不同时间的硅烷化改性。采用接触角测定仪、X射线光电子能谱仪（XPS）和扫描电子显微镜（SEM）对处理前后木材表面的润湿性、元素组成及化学状态、表面形貌进行了分析和表征。结果表明：相同处理条件下西南桦的接触角均大于思茅松，且接触角随处理时间增加逐渐增大，处理9 min时达最大值，分别为（1317.2）和（138.8 1.7），处理时间延长至12 min时，接触角略有下降。处理9 min时思茅松和西南桦木材表面的硅元素质量分数分别为18.80%，17.82%，沉积聚合物薄膜主要由SiC和SiCHx（x=1，2，3）组成。沉积后在思茅松木材的细胞壁表面形成了颗粒状结构，而在西南桦木材的细胞壁表面更趋向于形成棒状的结构。图8表1参19
- 木材科学与技术 /
- 等离子体 /
- 思茅松 /
- 西南桦 /
- 硅烷化
Abstract: Pinus kesiya and Betula alnoides wood surfaces were silylated for different times using hexamethyldisiloxane （HMDSO） plasma deposition. The wettability, element composition and their chemical bonding information, and surface morphology of the wood surfaces before and after modification were measured and analyzed using contact angle measurement, X-ray photoelectron spectroscopy （XPS）, and scanning electron microscopy （SEM）. Results showed that the hydrophobicity property of B. alnoides was better than that of P. kesiya. The contact angle increased gradually with an increase in treatment time and attained a maximum value with a 9 min treatment ［P. kesiya = （131 7.2） and B. alnoides = （138.8 1.7）］. With a 12 min treatment the contact angles decreased slightly. When deposition time was 9 min, the wood surface Si content for P. kesiya was 18.80% and for B. alnoides was 17.82%. Furthermore, the structure of the polymerization polymer films was mainly composed of SiC and SiCHx（x = 1,2,3）. After plasma coated HMDSO was applied to wood surfaces, a grain structure formed on the cell wall surface of P. kesiya; whereas a bar-like structure formed on B. alnoides. ［Ch, 8 fig. 1 tab. 19 ref.］
- wood science and technology /
- plasma /
- Pinus kesiya wood /
- Betula alnoides wood /
- silylation

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链接本文:
https://zlxb.zafu.edu.cn/article/doi/10.11833/j.issn.2095-0756.2015.06.012

https://zlxb.zafu.edu.cn/article/zjnldxxb/2015/6/903

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六甲基二硅氧烷等离子体对思茅松和西南桦木材表面的硅烷化

doi: 10.11833/j.issn.2095-0756.2015.06.012

1. 西南林业大学云南省木材胶黏剂与胶合制品重点实验室，云南昆明 650224;

2. 西南林业大学材料工程学院，云南昆明 650224;

3. 浙江省林业科学研究院浙江省竹类研究重点实验室，浙江杭州 310023

基金项目:

国家自然科学基金资助项目（31260159）;云南省应用基础研究计划面上项目（2012FB166）;云南省教育厅科学研究基金重点资助项目（2011Z034）

作者简介:
解林坤，副教授，博士，从事材料表面等离子体改性、木材材性及功能化改良研究。

通信作者: 杜官本，教授，博士生导师，从事木材胶黏剂、木质复合材料等研究。

收稿日期: 2015-01-13
修回日期: 2015-03-01
刊出日期: 2015-12-20

中图分类号: S781.7

关键词:

摘要: 以六甲基二硅氧烷（HMDSO）为沉积单体，在等离子体环境下对思茅松Pinus kesiya和西南桦Betula alnoides木材表面进行了不同时间的硅烷化改性。采用接触角测定仪、X射线光电子能谱仪（XPS）和扫描电子显微镜（SEM）对处理前后木材表面的润湿性、元素组成及化学状态、表面形貌进行了分析和表征。结果表明：相同处理条件下西南桦的接触角均大于思茅松，且接触角随处理时间增加逐渐增大，处理9 min时达最大值，分别为（1317.2）和（138.8 1.7），处理时间延长至12 min时，接触角略有下降。处理9 min时思茅松和西南桦木材表面的硅元素质量分数分别为18.80%，17.82%，沉积聚合物薄膜主要由SiC和SiCHx（x=1，2，3）组成。沉积后在思茅松木材的细胞壁表面形成了颗粒状结构，而在西南桦木材的细胞壁表面更趋向于形成棒状的结构。图8表1参19

English Abstract

Silylated Pinus kesiya and Betula alnoides wood surfaces using hexamethyldisiloxane （HMDSO） plasma deposition

1. Yunnan Provincial Key Laboratory of Wood Adhesives and Glue Products, Southwest Forestry University, Kunming 650224, Yunnan, China;

2. College of Material Engineering, Southwest Forestry University, Kunming 650224, Yunnan, China;

3. Key Laboratory of Bamboo Research of Zhejiang, Zhejiang Forestry Academy, Hangzhou 310023, Zhejiang, China

Funds:

国家自然科学基金资助项目（31260159）;云南省应用基础研究计划面上项目（2012FB166）;云南省教育厅科学研究基金重点资助项目（2011Z034）

Received Date: 2015-01-13
Rev Recd Date: 2015-03-01
Publish Date: 2015-12-20

Keywords:

Abstract: Pinus kesiya and Betula alnoides wood surfaces were silylated for different times using hexamethyldisiloxane （HMDSO） plasma deposition. The wettability, element composition and their chemical bonding information, and surface morphology of the wood surfaces before and after modification were measured and analyzed using contact angle measurement, X-ray photoelectron spectroscopy （XPS）, and scanning electron microscopy （SEM）. Results showed that the hydrophobicity property of B. alnoides was better than that of P. kesiya. The contact angle increased gradually with an increase in treatment time and attained a maximum value with a 9 min treatment ［P. kesiya = （131 7.2） and B. alnoides = （138.8 1.7）］. With a 12 min treatment the contact angles decreased slightly. When deposition time was 9 min, the wood surface Si content for P. kesiya was 18.80% and for B. alnoides was 17.82%. Furthermore, the structure of the polymerization polymer films was mainly composed of SiC and SiCHx（x = 1,2,3）. After plasma coated HMDSO was applied to wood surfaces, a grain structure formed on the cell wall surface of P. kesiya; whereas a bar-like structure formed on B. alnoides. ［Ch, 8 fig. 1 tab. 19 ref.］

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